某半导制造技术企业的因晶圆清洁工作制作工艺出现含氨废水治理工艺，蓄水量200吨/天。废水治理工艺中除高锰酸盐指数外还内含氟化物和进样器天价属，治理一定的难度大。立即排放物标条件高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 电镀废水有效成分及源头 晶圆家电清洗污水（注意因素）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀加工过程废气：含少量铜、镍等血本属，pH值动荡大 CMP抛光生产废水：含硅颗粒物及高锰酸盐指数 鑫霖环保设备方法 使用"检查是否沉淀自己+膜分离法+折点氯化"整合制作工艺： 预进行处理 ：加药系统CaCl2除氟，控制pH在7.5-8. 反渗透膜整体 ：清掉0.01μm这些颗料物 反进行渗透原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 ：将挥发酚溶缩至1000mg/L超过 折点氯化 ：精确度高设定氯加药量，将氧化还原电位被转化为N2 化合物置换 ：确保巨资属符合标准 决定视觉效果 氯离子增强＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属纯度底于在线检测限 水中水回用率达75% 废水造成量缩减40%