该例案源自西北东北部一所超大半导体行业营造公司，常见出产集成式电路系统电源芯片。在出产时候中，晶圆洗、蚀刻等生产工艺需的使用大批光电子级磷酸（溶解度≥85%），从制造高氧化还原电位含磷生产废水。公司原来的整理场地设施未能满意也日益苛刻的排放要求要求（TP≤0.5mg/L），急要优化进行改造。 废水处理方法营养成分及种类 废液重点因素于以下三个各个环节：晶圆除垢废液（占总出水量60%）、机械清洗道路废液（30%）及屋面清洗道路废液（10%）。饮用水特色具体表现为：pH值1.5-2.5，总磷盐浓度800-1200mg/L，氟正离子份量50-80mg/L，COD约200-300mg/L，并具有微量分析血本属（铜、锌等）。 治理标准流程标准流程 大型项目选用"预外理+普通机械放置+初中级硫化+深入活性炭过滤"的组合名字工艺技术： 调节器池 ：平均地表水用水量，开设pH优酷云污染监测设计 4级不良反应池 ：加药石灰粉乳自动调节pH至8.5-9.0，产生Ca3(PO4)2奠定 两级不起作用池 ：增加PAC和PAM强化装备斜板沉淀池结果 斜板积淀池 ：保证 固液区分，污水进行脱干系統 Fenton防氧化单元测试卷 ：H2O2与Fe²⁺联合意义吸附生产物 多有机溶剂净化器 ：石英晶体砂+几丁质酶炭组合构成净化，以保证喷水清澈见底 阴离子交互系统的 ：进的一步清除残留五金阳离子 结果效率 设备使用稳定性后，冒水水体质量：总磷≤0.3mg/L，COD≤30mg/L，氟阴阳离子≤5mg/L，哪项指数远低于《网上工业企业水破坏物废气水质标准规范》（GB 39731-2020）。每一年的少磷废气排放出约15吨，飞灰造成量较普通加工制作工艺 降低40%，使用成本预算操纵在8.两元/吨水。